Hỗ trợ tối đa 5 tệp, mỗi tệp có kích thước 10M. được
Shanghai Fradwell Industrial Automation Co., Ltd. 86-21-68060766 cnsales@fradwell.com
Tin tức Nhận báo giá
Nhà - Tin tức - LINOS F-Theta-Ronar Ống kính trường & Bộ mở rộng chùm tia 2026: Cách chọn tiêu cự và kết hợp bộ mở rộng với máy quét của bạn

LINOS F-Theta-Ronar Ống kính trường & Bộ mở rộng chùm tia 2026: Cách chọn tiêu cự và kết hợp bộ mở rộng với máy quét của bạn

October 28, 2026
1. Ống kính trường f-Theta thực sự giải quyết được vấn đề

Hai gương của máy quét làm lệch chùm tia ởvận tốc góc không đổi. Tập trung chùm tia đó bằng một thấu kính hình cầu đơn giản và các điểm laser sẽ "dày đặc ở trung tâm, thưa thớt ở các cạnh" - vùng làm việc càng lớn thì độ lệch về vận tốc tuyến tính ở cạnh và mật độ năng lượng càng lớn.

Thấu kính trường f-Theta làm cho vị trí điểm lấy nét tuyến tính với góc quét(mối quan hệ "f-theta"), chuyển vận tốc góc không đổi của máy quét thànhvận tốc tuyến tính không đổi trên phôi, do đó kích thước điểm và mật độ năng lượng duy trì đồng đều trên toàn bộ trường quét.

Hai mối quan hệ tính toán chính thức(nguồn: tài liệu chính thức của LINOS, phần Tính toán cơ bản):

  • Đường kính điểm: Điểm-Ø = 1,83 × λ × FL / Chùm tia-Ø
    • trong đó 1,83 là hệ số apodization, λ là bước sóng, FL là tiêu cự (mm) và Beam-Ø là đường kính chùm tia đầu vào (mm)
  • Chiều dài quét: 2y = FL × 2Θy × π/180,2x = FL × 2Θx × π/180
    • trong đó FL là tiêu cự (mm) và Θx, Θy là góc quét (°)
2. Độ dài tiêu cự chính thức ↔ Bảng trường quét (Dữ liệu lựa chọn lõi) 2.1 Sê-ri 1030–1080 nm (silica nung chảy, lớp phủ hấp thụ thấp) - dải laser sợi quang chính
FL danh nghĩa (mm) Trường quét (mm) Góc quét tối đa ±Θx,y (°) Chùm tia đầu vào Ø @1/e² (mm) Điểm @1/e² (μm) Khoảng cách làm việc WD (mm) Kính bảo vệ Số phần
70 (viễn tâm) 26 × 26 ±10,9 14 10 87,5 PG22 4401-551-000-26
100 (viễn tâm) 44 × 44 ±12,2 14 15 137,0 PG14 4401-561-000-26
118 (viễn tâm) 50 × 50 ±15,5 14 17 233,9 PG14 4401-607-000-26
163 85 × 85 ±15,2 14 23 219,3 PG14 4401-589-000-26
167 (viễn tâm) 84 × 84 ±14,9 20 16 215,4 PG16 4401-513-000-26
251 (viễn tâm) 63 × 63 ±14,4 20 25 372,3 PG16 4401-631-000-26
255 187 × 187 ±21,3 10 50 317,4 PG14 4401-499-000-26
270 136 × 136 ±14,8 20 27 352.0 PG16 4401-604-000-26
340 176 × 176 ±15,1 20 33 441,6 PG16 4401-546-000-26
420 254 × 254 ±17,3 20 42 510,9 PG14 4401-508-000-26
2.2 Sê-ri 340–360 nm (silica nung chảy) - Dải xử lý UV
FL danh nghĩa (mm) Trường quét (mm) Góc quét tối đa ±Θx,y (°) Chùm tia đầu vào Ø @1/e² (mm) Điểm @1/e² (μm) Khoảng cách làm việc WD (mm) Kính bảo vệ Số phần
70 (viễn tâm) 28 × 28 ±11,3 10 5 92,5 PG4 4401-576-000-21
100 (viễn tâm) 46 × 46 ±12,7 10 7 136,7 PG11 4401-509-000-21
160 98 × 98 ±17,7 7 15 197,4 PG4 4401-399-000-21
167 (viễn tâm) 65 × 65 ±11,3 10 13 255,0 PG15 4401-511-000-21
255 170 × 170 ±19,3 10 17 318.1 PG11 4401-481-000-21
2.3 Các dải bước sóng khác (tóm tắt tài liệu chính thức)
Vật liệu Các ban nhạc được bảo hiểm Phạm vi tiêu cự
Kính quang học 532–1064nm 100–420 mm
silic nung chảy 340–360 / 440–460 / 515–540 / 1030–1080 / 1900–2000 nm Phụ thuộc vào băng tần (ví dụ: 265/354/437 mm trong băng tần 1900–2000 nm)
3. Viễn tâm và phi viễn tâm: Khi nào bạn phải chuyển sang viễn tâm

Mô tả chính thức của các phiên bản viễn tâm:trường quét tối đa không vượt quá khẩu độ ống kính, Nhưngđộ tròn của điểm và góc tới không đổi trên toàn bộ trường quét.

Mục Không viễn tâm (tiêu chuẩn) viễn tâm
Trường quét cho một FL nhất định Lớn hơn (ví dụ 255 mm → 187 × 187 mm) Nhỏ hơn (ví dụ 251 mm → 63 × 63 mm)
Điểm tròn trên sân Khác nhau xa trung tâm Không thay đổi
Góc tới trên sân Thay đổi theo vị trí Không thay đổi
Phù hợp điển hình Đánh dấu, xử lý chung, diện tích tối đa Khoan chính xác, gia công vi mô, thông qua hình côn/vuông góc, các bộ phận nhiều lớp hoặc bậc
4. Silica hợp nhất và kính quang học: Lựa chọn vật liệu và lớp phủ

Theo giải thích kỹ thuật chính thức:

  • Lớp phủ hấp thụ thấp:quang học silica nung chảy trong400–1080nmtàu có lớp phủ hấp thụ thấp của nhà sản xuất làm tiêu chuẩn -
    • sự hấp thụ20 trang/phút @1064nm(thường tốt hơn 10 ppm)
    • sự hấp thụ30 trang/phút @532nm(thường tốt hơn 15 trang/phút)
    • quy tắc nhận dạng: thấu kính silica nung chảy có số bộ phận kết thúc bằng "-26" mang lớp phủ này
  • Quy trình phủche phủ UV / VIS / NIR, từ lắng đọng thông thường đếnphún xạ chùm ion;
  • Lớp phủ tối ưu hóa gócđược sử dụng để đạt được sự xuất sắc vàđồng phụctruyền qua toàn bộ trường quét;
  • Kiểm tra ngưỡng thiệt hại:tất cả các lớp phủ được đo trên mỗiDIN EN ISO 11254-2sử dụng phương pháp đa xung (S-on-1);
  • Chuyển đổi tiêu điểm nhiệtđược phản đối, theo tài liệu chính thức, bằng cách sử dụng vật liệu có độ hấp thụ thấp hơn (silica nung chảy cao cấp được chọn lọc cụ thể) cùng với lớp phủ có độ hấp thụ thấp, được giám sát từng đợt bằng thiết bị đo độ hấp thụ nội bộ của nhà sản xuất.
Trường hợp Giá trị
Thấu kính trường silica hợp nhất @1064 nm, 12 ns, 100 Hz 40J/cm2
Thấu kính trường silica hợp nhất @1030 nm, 291 fs, 5 kHz 0,9 J/cm2
Thấu kính trường quang học @1064 nm, 9 ns, 100 Hz 10J/cm2
Thiết bị mở rộng chùm tia, thấu kính đầu vào silica nung chảy 1064 nm, 9 ns 30J/cm2
Thiết bị giãn nở chùm tia, silica nung chảy 355 nm, 5 ns 5J/cm2

Tại sao nó quan trọng:Các giá trị LIDT xung ngắn (femtosecond/picosecond) khác với các giá trị nano giây theo hai bậc độ lớn (0,9 J/cm2 so với 40 J/cm2).Việc chọn quang học theo ngưỡng nano giây cho quy trình femto giây là một nguồn gây hư hỏng theo tầng cổ điển.

5. Bộ mở rộng chùm tia: Dòng chính thức chỉ có độ phóng đại thay đổi liên tục 5.1 Công dụng của thiết bị giãn nở chùm tia

Theo mô tả chính thức, thiết bị mở rộng chùm tia làhệ thống quang học định hình chùm tiađể xử lý vật liệu laser:

  • Họthay đổi đường kính chùm tia và sự phân kỳ đồng thời, tối ưu hóađường kính tiêu điểm, vị trí tiêu cự và đặc điểm truyền chùm tia;
  • Bằng cách thay đổi độ phân kỳ của chùm tia đầu vào, họ có thểđiều chỉnh tiêu cự phía sau của ống kính trường F-Theta-Ronar / Focus-Ronar;
  • Tất cả các bộ mở rộng chùm tia LINOS có thể được sử dụng ngược lại làm bộ giảm chùm tia;
  • Tài liệu chính thức khuyến nghị rõ ràng việc ghép nối chúng vớiỐng kính trường LINOS F-Theta-Ronar.
5.2 Thiết bị mở rộng chùm tia phóng đại có thể thay đổi thủ công (bảng thông số kỹ thuật chính thức)
Người mẫu phóng đại Bước sóng thiết kế Phạm vi bước sóng Chùm tia đầu vào tối đa @1/e² Vật liệu Số phần
Beam-Expander var. Silica nung chảy 1x-4x 355 nm (vỏ bằng thép không gỉ) 1,0–4,0 355nm 340–360nm 10,0 mm Silica hợp nhất + thép không gỉ 4401-613-000-28
Beam-Expander var. 2x-8x 1064nm 2,0–8,0 1064nm 1064nm 8,0 mm Kính quang học + nhôm anodized đen 4401-256-000-20
Beam-Expander var. 2x-8x 532nm 2,0–8,0 532nm 532nm 8,0 mm Kính quang học + nhôm anodized đen 4401-257-000-20
Beam-Expander var. silica nung chảy 2x-8x 532 nm 2,0–8,0 532nm 515–540nm 4,0 mm Ống kính đầu vào silica hợp nhất 4401-446-000-20
Beam-Expander var. silica nung chảy 2x-8x 1064 nm 2,0–8,0 1064nm 1030–1080nm 6,0 mm Ống kính đầu vào silica hợp nhất 4401-359-000-20
Beam-Expander var. 2x-8x 633/780/830/980nm 2,0–8,0 633nm 630–980nm 8,0 mm Kính quang học 4401-258-000-20
Beam-Expander var. silica nung chảy 2x-8x 355 nm 2,0–8,0 355nm 355nm 3,4 mm Tất cả silica nung chảy 4401-402-000-20

Các thông số cơ học chung (tài liệu chính thức):

  • Đường kính chùm tia đầu ra tối đa cơ học:31 mm
  • Chiều dài tối đa:165,5 mm(bao gồm cả hành trình hiệu chỉnh phân kỳ)
  • Đường kính ngoài tối đa:Ø 42,0mm; đường kính lắpØ 37,6 −0,1 mm(mặt chuẩn A)
  • Độ lệch góc đầu vào tối đa được phép:0,2° (không có họa tiết); độ nghiêng chùm tia đầu ra được khuếch đại bởinghịch đảo của độ phóng đại
  • Xấp xỉ chính thức:đường kính chùm tia đầu vào tối đa = 31 mm `độ phóng đại(độ phóng đại cao hơn cho phép khẩu độ đầu vào nhỏ hơn)
5.3 Thiết bị mở rộng chùm tia phóng đại có thể thay đổi bằng động cơ (tờ sản phẩm chính thức)
  • Biến liên tục1x…4xVà2x…8x; dải bước sóng340–360nm / 515–540nm / 1030–1080nm;tất cả các thiết kế silica hợp nhất;
  • Đường kính chùm tia đầu vào tối đalên đến 8 mm;đầu ra cơ học tối đa 31 mm;
  • 10 cài đặt trước độc lập(độ phóng đại và phân kỳ); chính thức tuyên bố cho phéptự động chuyển đổi độ phóng đại giúp rút ngắn thời gian thiết lập máytrong khiduy trì lớp an toàn laser trong quá trình điều chỉnh;
  • Giao diện:SubD9/RS232, USB 2.0, Liên hệ Phoenix/RS232; quy tắc hậu tố số phần−20 = SubD9/RS232, −21 = Liên hệ Phoenix/RS232, −22 = USB 2.0;
  • Tốc độ truyền 9600 bit/s; cung cấp7–12 V(7–24 V cho giao diện Phoenix Contact); Tuân thủ CE / RoHS;IP 20; Phần mềm điều khiển Windows (Win10).
phóng đại Bước sóng (nm) Chùm tia đầu vào tối đa @1/e² (mm) Lớp phủ hấp thụ thấp Số phần
1x…4x 340–360 8 — 4401-596-000-20 / -21 / -22
1x…4x 515–540 8 ✓ 4401-597-000-20 / -21 / -22
1x…4x 1030–1080 8 ✓ 4401-598-000-20 / -21 / -22
2x…8x 340–360 6 — 4401-516-000-20 / -21 / -22
2x…8x 515–540 8 ✓ 4401-515-000-20 / -21 / -22
2x…8x 1030–1080 8 ✓ 4401-514-000-20 / -21 / -22

Ví dụ về bảng dữ liệu riêng lẻ (để xác minh chi tiết lựa chọn):

tham số 4401-596-000-2x (1x-4x, 340–360nm) 4401-634-000-2x (2x-8x, 340–360nm)
Chất liệu ống kính silic nung chảy silic nung chảy
Khẩu độ đầu vào cơ học 8,7 mm 15,5 mm
Chùm tia đầu ra tối đa @1/e² 25 mm (khẩu độ đầu ra cơ học 31 mm) 30,9mm
Độ ổn định của điểm < 0,3 mrad < 0,5 mrad
Phân tán độ trễ nhóm GDD @λ 3114 fs² 1906 fs²
Tổng truyền @340–360 nm > 96% > 96%
LIDT 4 J/cm2 @355 nm, 6 ns, 100 Hz; 0,4 J/cm2 @343 nm, 200 fs, 1 kHz Như nhau
Cân nặng 0,90 kg 1,0 kg
5.4 Thiết bị mở rộng chùm tia UV thải khí thấp (1x–4x)

Định vị chính thức:thiết bị mở rộng chùm tia UV tiêu chuẩn có lượng khí thải thấp đầu tiên có sẵn, với vỏ bằng thép không gỉ và thấu kính quang học silica nung chảy, nhằm mục đíchchất bán dẫn, xử lý wafer và màn hình điện tửcác ngành công nghiệp. Thông cáo báo chí chính thức (2024-04-11) đã đưa ra nó cùng vớiThấu kính UV F-Theta Ronar thải khí thấp (340–360 nm).

tham số Giá trị
Phạm vi phóng đại 1x – 4x (liên tục, bao gồm điều chỉnh phân kỳ đầu ra liên tục)
Bước sóng thiết kế 355 nm (lớp phủ băng thông rộng 340–360 nm)
Đường kính chùm tia đầu vào tối đa 10 mm @1/e²; 12 mm (cắt ngắn)
Đường kính chùm tia đầu ra tối đa 24 mm (cắt ngắn)
Quá trình lây truyền ≥ 96 % @340–360 nm; > 90% @635nm
LIDT 4 J/cm2 @355 nm, 6 ns, 100 Hz
Nhà ở Thép không gỉ (thiết kế thoát khí thấp)
Số phần 4401-613-000-28
6. Kính bảo vệ (Có thể thay thế) — Vật tư tiêu hao bị bỏ qua nhiều nhất

Về mặt chính thức, cả thấu kính trường và thiết bị mở rộng chùm tia đều sử dụngkính bảo vệ silica hợp nhất có thể thay thếvà với kính bảo vệ được lắp ở phía lối ra, cụm này được bảo vệ khỏiIP6Xtiêu chuẩn bụi Kính bảo vệ được đặt hàng riêng, ví dụ:

số PG Đường kính × độ dày Dải phủ AR Số phần
PG14 113 mm × 3 mm 1030–1080 nm, độ hấp thụ thấp 4401-499-005-00
PG16 132 mm × 3 mm 1030–1080 nm, độ hấp thụ thấp 4401-513-006-00
PG11 113 mm × 3 mm 340–380 + 633nm 4401-481-005-00
PG15 113 mm × 3 mm 340–380 + 633nm 4401-511-823-00
PG27 17,5 mm × 1,6 mm 340–380 + 633nm 4401-516-006-00
7. Ống kính trường phù hợp, Bộ mở rộng chùm tia và Máy quét: Danh sách kiểm tra sáu bước

Bước 1 - Xác định yêu cầu về khu vực làm việc và vị trí

  • Làm việc ngược lại với các công thức chính thức:Điểm-Ø = 1,83 × λ × FL / Chùm tia-ØVà2y = FL × 2Θy × π/180;
  • Hãy nhớ rằng góc quét bị giới hạn bởi chính máy quét (góc quét tối đa khác nhau tùy theo kiểu máy - hãy kiểm tra bảng dữ liệu máy quét).

Bước 2 - Cố định tiêu cự và kiểm tra khoảng cách làm việc

  • Chọn các tiêu cự thích hợp từ các bảng trong Phần 2 vàđọc khoảng cách làm việc WD cùng một lúc— WD không đủ sẽ gây ra va chạm vào phôi và thường bị bỏ qua hơn là kích thước điểm.

Bước 3 - Cố định vật liệu (silica nung chảy và thủy tinh quang học)

  • Bước sóng trong 340–360 / 440–460 / 515–540 / 1030–1080 / 1900–2000 nm → loạt silica nung chảy;
  • 532–1064 nm ở công suất thông thường → dòng kính quang học;
  • Xung ngắn hoặc công suất cao → thích dùng silica nung chảy có lớp phủ có độ hấp thụ thấp (số bộ phận "-26").

Bước 4 - Xác minh LIDT

  • So khớp thời lượng xung thực tế và mật độ công suất với LIDT (giá trị nano giây và femto giây khác nhau theo hai bậc độ lớn - xem Phần 4);
  • Chính thức:thiết bị giãn nở chùm tia thực tế LIDT và dịch chuyển tiêu điểm nhiệt phụ thuộc vào thiết lập hệ thống cụ thể và các thông số laser; thử nghiệm trước khi sử dụng được khuyến khích.

Bước 5 - Quyết định xem bạn có cần thiết bị mở rộng chùm tia hay không

  • Để giảm kích thước điểm → mở rộng đường kính chùm tia đầu vào (sử dụng thiết bị mở rộng để tiếp cận khẩu độ đầu vào thiết kế của thấu kính trường mang lại điểm nhỏ nhất);
  • Để điều chỉnh vị trí lấy nét / tiêu cự sau → thay đổi độ phân kỳ đầu vào bằng thiết bị mở rộng;
  • Để giảm bớt thay vì mở rộng → một cách chính thức, các bộ mở rộng LINOS có thể được sử dụng ngược lại làm bộ giảm chùm tia.

Bước 6 - Sửa giao diện, cài đặt trước và vật tư tiêu hao

  • Đối với các phiên bản có động cơ, hãy xác nhận hậu tố giao diện (−20 / −21 / −22) và liệu có cần chuyển đổi tự động 10 cài đặt trước hay không;
  • Xác minh ren ống kính trường (M85×1, với các mẫu riêng lẻ ở M76×1 / M110×1) và đường kính lắp thiết bị giãn nở (Ø37,6 −0,1 mm);
  • Đặt mua kính bảo vệ phù hợp trong cùng một lần mua.
8. Cạm bẫy thực địa
  • Cạm bẫy 1: Chỉ nhìn vào trường quét, không nhìn vào khoảng cách làm việc.Tiêu cự dài cho diện tích lớn nhưng cũng cho WD dài (ví dụ tiêu cự 420 mm → WD 510,9 mm). Nếu cấu trúc máy không thể chứa được nó, hãy loại trừ nó ở bước một.
  • Cạm bẫy 2: Lựa chọn quang học trên LIDT nano giây cho quy trình femto giây.Dữ liệu chính thức: thấu kính trường silica nung chảy hiển thị 40 J/cm2 ở 12 ns nhưng chỉ 0,9 J/cm2 ở 291 fs. Việc chọn theo giá trị nano giây sẽ dẫn đến hư hỏng theo tầng trong thời gian ngắn.
  • Cạm bẫy 3: Nhầm lẫn giữa "khẩu độ cơ học" với "khẩu độ quang học 1/e²".Đầu ra cơ học tối đa của thiết bị mở rộng chùm tia là 31 mm, trong khi một mẫu cụ thể có thể là 25 mm hoặc 30,9 mm ở định nghĩa 1/e²; tính điểm từ 31 mm cho kết quả sai.
  • Cạm bẫy 4: Quên rằng khẩu độ đầu vào của thiết bị mở rộng sẽ co lại khi phóng đại.Xấp xỉ chính thức: đường kính chùm tia đầu vào tối đa = 31 mm `độ phóng đại. Việc chọn độ phóng đại cao mà không kiểm tra khẩu độ đầu vào sẽ tạo ra hiện tượng mờ nét hoặc cắt bớt.
  • Cạm bẫy 5: Kết hợp quang học viễn tâm và không viễn tâm trong một quy trình.Phiên bản viễn tâm giữ độ tròn điểm và góc tới không đổi trên toàn trường; các phiên bản không viễn tâm thay đổi theo vị trí. Việc trộn chúng trên một máy sẽ tạo ra chất lượng không nhất quán giữa các trạm.
  • Cạm bẫy 6: Bỏ qua giới hạn độ lệch góc đầu vào 0,2°.Về mặt chính thức, góc đầu vào tối đa được cho phép là 0,2° mà không bị mờ nét ảnh và độ nghiêng đầu ra được khuếch đại bằng nghịch đảo của độ phóng đại - do đó độ phóng đại càng cao thì đường đi của chùm tia càng cẩu thả càng gây tổn hại.
  • Cạm bẫy 7: Không dự trữ kính bảo vệ.Kính bảo vệ là vật tư tiêu hao có thể thay thế được đặt hàng riêng; chạy ra ngoài dừng dòng.

9. Liên kết sản phẩm: Tìm nguồn cung ứng thấu kính trường LINOS và bộ mở rộng chùm tia

Fradwell cung cấp các thấu kính trường LINOS chính hãng của Đức (F-Theta-Ronar) và các thiết bị mở rộng chùm tia, với sự hỗ trợ lựa chọn theo tiêu cự/bước sóng/trường quét, xác minh bảng dữ liệu và vận chuyển trên toàn thế giới:

  • Thấu kính trường hấp thụ thấp silica nung chảy 1030–1080 nm(70/100/118/163/167/251/255/270/340/420 mm): [giữ chỗ trang sản phẩm];
  • Thấu kính trường silica hợp nhất tia cực tím 340–360nm(70/100/160/167/255 mm): [giữ chỗ trang sản phẩm];
  • Thiết bị mở rộng chùm tia phóng đại có thể thay đổi bằng tay(1x-4x, 2x-8x, nhiều dải bước sóng): [trình giữ chỗ trang sản phẩm];
  • Thiết bị mở rộng chùm tia phóng đại có thể thay đổi bằng động cơ(1x-4x, 2x-8x, 10 giá trị đặt trước): [giữ chỗ trang sản phẩm];
  • Thiết bị mở rộng chùm tia UV có lượng khí thải thấp(1x-4x, chất bán dẫn/wafer/màn hình): [trình giữ chỗ trang sản phẩm];
  • Kính bảo vệ phù hợp (dòng PG): [giữ chỗ trang sản phẩm].

Để được hỗ trợ lựa chọn, hãy gửi cho chúng tôi: bước sóng laser, công suất trung bình/cực đại và thời lượng xung, trường quét mục tiêu, đường kính điểm mục tiêu, giới hạn khoảng cách làm việc và kiểu máy quét có góc quét tối đa.

10. Kết luận

Lựa chọn thấu kính trường và thiết bị mở rộng chùm tia LINOS trong ba câu:

  1. Độ dài tiêu cự là biến chính duy nhất— nó cố định trường quét, kích thước điểm và khoảng cách làm việc cùng nhau và khóa nó sẽ khóa mối quan hệ giữa cả ba (công thức chính thức trong Phần 1);